SEMICON Taiwan2008特別報導(二)

提升產品效能/支援服務 半導體設備商加重在台布局

作者: 王智弘
2008 年 10 月 09 日
為協助半導體製造廠順利克服先進製程的開發挑戰,設備業者紛紛推出相關因應的解決方案,如可調節式CMP系統、多反應室晶圓清洗系統,與各種晶圓感測量測系統,期能降低晶圓缺陷與錯誤發生機率,進而提高生產力。
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